曝光機是20世紀60年初掃描電子顯微鏡基礎發展而來的一種新光刻技術 ,在70年代后廣泛應用于半導體電路板生產制造，傳統汞燈曝光機有如下缺點，詳情請見下文：

　　1.采用在的反光罩，發光角度超過45度，反光罩無規律反射和漫射；造成阻焊成像解析度不高，生產有精密的BGA、阻焊橋等產品良品率降低。

　　2.光源穩定性差，使用壽命在1000小時左右，在這么短的時間內光強變化明顯；造成周期性更換光源和相關配件，維護成本高。

　　3.傳統曝光機采用高壓汞燈發光成像，加配空調冷卻，整臺機器超過30KW,;造成耗能成本高，利潤空間降低。

　　4.維護復雜、換汞燈、水套、高子罐、密封圈等，維護成本高，造成每年耗材和維護成本達3萬左右。

　　5.光強分布不均勻，臺面整體均勻度在85%左右，臺面邊緣均勻度更低，整個臺面的利用率不足80%；造成生產效率降低，品質一致性差，有些產品中間正常，四角曝光不良。

　　6.因解像度的局限，難以開發更精密的產品，市場局限顯現，難以跟上電子產品更輕、更薄、更密、更多功能的發展要求，這樣成為制約公司發展的技術瓶頸，影響公司發展。

　　7.曝光區間嚴格控制在臺面80%的區間，臺面四周與中間能量不均勻，品質一致性差。因為是散光，精密BGA和阻焊橋等曝光合格率低，還會出現顯影側蝕、阻焊橋甩線等不良；造成生產管控難度增大，操作必須保持阻焊精密和深度固化二者之間艱難平衡，品質穩定性和一致性差，良率降低。

　　以上就是華恒智能科技小編給你們介紹的傳統曝光機阻焊成像的缺點，希望大家看后有所幫助！